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Cleaning Technology for Semiconductor & Display factory Scrubbers

​반도체 디스플레이 공정의 Scrubber에 부착된 Scale의 제거 기술

반도체 및 디스플레이 생산에서는 다양한 생산 공정에서 유해한 성분이 배출되며, 이를  습식의  Scrubber 및 전기 집진기  사용하여 제거합니다. 반도체 제조에 사용되는 다양한 가스 및 미립자는 Scrubber에서 제거되나, 불용성 미립자가 Scrubber 창치에  쌓이게 되며, 유지 보수를 위해 주기적으로 청소를 시행해야 하는데,  밀폐된 Scrubber 장치 내부로  진입하여 세척 할 경우 안전 환경문제가 야기되며,  부자재를 인출하여 세척할 경우 과도한 비용, 부자재의  손상을 초래합니다.

이를 해결하기 위해서는  친환경 세정제에 의한  장치에 진입 및 분해 하지 않고 세척가능한 CIP (Cleaning In Place) 방법에 의해 Scrubber의 성능이 유지되어야 합니다.

SKP는 Scrubber 에 부착된 고형물질을 효과적으로 제거하는 정밀 화학약품을 제공합니다.

​반도체 & 디스플레이 Scrubber Cleaning
Semiconductor & Display Scrubbers Cleaning

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​반도체 디스플레이 공정의  Scrubber의 비정상 운전시 대기로 배출되는 백연 현상이 발생합니다.
​wet scrubber 및 WEPS의 정상 운전을 위해  Scrubber에 부착된 Scale을 주기적으로 세척해야  합니다.

SkpChem은Scrubber에 고형화 되어 부착된 deposits을 용이하게 세척하는   CIP Cleaning  Chemical을 제공합니다.

Hybrid Scrubber 

Hybrid wet Scrubber

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WEPS (전기 집진기)

Tri packed wet scrubber

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용해 및 분산 세정제의 전, 후 결과

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SkpChem 의 용해 분산제에 의해 미립화된 Scale

고형화된 Scrubber 장치에 부착된 고형물 스케일

고형물이 용해 및 초 미립화된 스케일 (순환세척 후 배출)

​반도체 디스플레이 공정의  Ammonia 제거를 위한 Horizontal wet Scrubber의 deposits의 제거 기술
​wet scrubber 에 축적된 Bio-Film은  주기적으로 세척해야  합니다.

SkpChem은Scrubber에 고형화 되어 부착된 Bio-Film을 용이하게 세척하는   CIP Cleaning  Chemical을 제공합니다.

 Bio-Film Cleaning of wet Scrubber 

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