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Cleaning Technology for Semiconductor & Display factory Scrubbers
반도체 디스플레이 공정의 Scrubber에 부착된 Scale의 제거 기술
반도체 및 디스플레이 생산에서는 다양한 생산 공정에서 유해한 성분이 배출되며, 이를 습식의 Scrubber 및 전기 집진기 사용하여 제거합니다. 반도체 제조에 사용되는 다양한 가스 및 미립자는 Scrubber에서 제거되나, 불용성 미립자가 Scrubber 창치에 쌓이게 되며, 유지 보수를 위해 주기적으로 청소를 시행해야 하는데, 밀폐된 Scrubber 장치 내부로 진입하여 세척 할 경우 안전 환경문제가 야기되며, 부자재를 인출하여 세척할 경우 과도한 비용, 부자재의 손상을 초래합니다.
이를 해결하기 위해서는 친환경 세정제에 의한 장치에 진입 및 분해 하지 않고 세척가능한 CIP (Cleaning In Place) 방법에 의해 Scrubber의 성능이 유지되어야 합니다.
SKP는 Scrubber 에 부착된 고형물질을 효과적으로 제거하는 정밀 화학약품을 제공합니다.
반도체 & 디스플레이 Scrubber Cleaning
Semiconductor & Display Scrubbers Cleaning
반도체 디스플레이 공정의 Scrubber의 비정상 운전시 대기로 배출되는 백연 현상이 발생합니다.
wet scrubber 및 WEPS의 정상 운전을 위해 Scrubber에 부착된 Scale을 주기적으로 세척해야 합니다.
SkpChem은Scrubber에 고형화 되어 부착된 deposits을 용이하게 세척하는 CIP Cleaning Chemical을 제공합니다.
Hybrid Scrubber
Hybrid wet Scrubber
WEPS (전기 집진기)
Tri packed wet scrubber
용해 및 분산 세정제의 전, 후 결과
SkpChem 의 용해 분산제에 의해 미립화된 Scale
고형화된 Scrubber 장치에 부착된 고형물 스케일
고형물이 용해 및 초 미립화된 스케일 (순환세척 후 배출)
반도체 디스플레이 공정의 Ammonia 제거를 위한 Horizontal wet Scrubber의 deposits의 제거 기술
wet scrubber 에 축적된 Bio-Film은 주기적으로 세척해야 합니다.
SkpChem은Scrubber에 고형화 되어 부착된 Bio-Film을 용이하게 세척하는 CIP Cleaning Chemical을 제공합니다.
Bio-Film Cleaning of wet Scrubber
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